ASTM F 1366-1992 用次级离子质谱仪测量重掺杂硅基底中氧含量的测试方法

作者:标准资料网 时间:2024-05-20 04:46:51  浏览:8561   来源:标准资料网

【英文标准名称】:TestMethodforMeasuringOxygenConcentrationinHeavilyDopedSiliconSubstratesbySecondaryIonMassSpectrometry
【原文标准名称】:用次级离子质谱仪测量重掺杂硅基底中氧含量的测试方法
【标准号】:ASTMF1366-1992
【标准状态】:作废
【国别】:美国
【发布日期】:1992
【实施或试行日期】:
【发布单位】:美国材料与试验协会(ASTM)
【起草单位】:ASTM
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:试验;衬底(绝缘);质谱学;含氧量;硅
【英文主题词】:oxygencontent;substrates(insulating);massspectrometry;testing;silicon
【摘要】:
【中国标准分类号】:H82
【国际标准分类号】:29_040_30
【页数】:5P;A4
【正文语种】:英语